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专利名称：衬底支撑设备、包含其的衬底处理设备以及衬底处
理方法
专利类型：发明专利
发明人：崔丞佑,李承桓,朴柱赫申请号：CN201910098776.4申请日：20190131公开号：CN1103409A公开日：20191022
摘要：本发明涉及一种衬底支撑设备、包含其的衬底处理设备以及能够在不考虑反应空间的压力变化的情况下稳定地装载衬底的衬底处理方法，所述方法包含：供应惰性气体；以及通过依次且反复地供应源气体、供应反应气体以及使反应气体活化来形成薄膜，其中衬底的中心部分与基座的中心部分彼此间隔开以形成分隔空间，衬底上方的反应空间与分隔空间经由一个或多个通道彼此连通，在惰性气体的供应期间通过一个或多个通道将惰性气体引入到分隔空间，且惰性气体防止在薄膜沉积工艺期间分隔空间与反应空间之间的压力不平衡。
申请人：ASM知识产权私人控股有限公司
地址：荷兰阿尔梅勒佛斯特卡尔斯瑞特8,AP1322
国籍：NL
代理机构：北京同立钧成知识产权代理有限公司
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