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专利名称：一种障壁曝光机间隔计测单元专利类型：实用新型专利
发明人：刘衍伟,韩荣,陈富贵,段冰,魏兴龙申请号：CN201320721170.X申请日：20131115公开号：CN2033741U公开日：20140611
摘要：本实用新型涉及一种等离子显示屏制造用障壁曝光设备，尤其是涉及一种新型障壁曝光机间隔计测单元。本实用新型所要解决的技术问题是：针对现有技术存在的问题，提供了一种新型障壁曝光机间隔计测单元，可用间隔传感器支架对UV光线进行遮挡，同时间隔传感器支架结构的变化及母版间隔窗口面积减小，更能有效对UV光进行遮挡，克服即不出现图形残留又不出现曝光不足问题。本实用新型通过间隔传感器支架结构变化，将间隔传感器支架厚度进行减少，再增加一个小挡片，使得支架总遮光面积减小，可以防止间隔传感器支架遮挡面积太大，出现曝光不足的问题。
申请人：四川虹欧显示器件有限公司
地址：621000 四川省绵阳市经济开发区绵州大道中段186号长虹工业园
国籍：CN
代理机构：成都九鼎天元知识产权代理有限公司
代理人：徐宏
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